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外尔半金属Td-WTe2是一种新型的拓扑量子材料, 具有很强的自旋轨道耦合作用和独特的拓扑能带结构, 被认为是一种非常有潜力的自旋电子材料. 通过构造WTe2/Ti异质结构, 能够解决原本在WTe2上无法直接制备出具有垂直磁各向异性铁磁层的难题. 与现有半导体工艺相兼容, 器件集成需要经受高温处理过程, 因此WTe2/Ti的热稳定性对于实际器件制备和应用至关重要. 然而, WTe2/Ti界面的热稳定性目前仍然不清楚. 本文利用显微拉曼散射技术系统研究了不同温度退火后的WTe2/Ti异质结的热稳定性, 发现WTe2和Ti的界面热稳定性与WTe2纳米片的厚度相关, WTe2纳米片厚度适当增加, WTe2/Ti异质结更加稳定. 此外, 高温退火会导致更加强烈的界面反应, 在473 K退火30 min后, WTe2 (12 nm)与Ti发生明显界面反应, 生成Ti-Te化合物, 该现象与高分辨透射电子显微镜测量和元素分析结果高度一致. 研究结果为进一步探究WTe2/Ti界面对于自旋轨道转矩效应的影响提供有用信息, 激发基于WTe2等拓扑材料的低功耗自旋器件研究.