一种高维持电压的LVTSCR

时间:2022-04-15 13:32:56
作者:陈龙,李健儿,廖楠,徐银森,冯勇,刘继芝,徐开凯,赵建明
关键字:低压触发可控硅,静电放电,高维持电压,埋层,LVTSCR,ESD,highholdingvoltage,buriedlayer
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对于工作电压为5 V的集成电路,低压触发可控硅(LVTSCR)的触发电压已能满足ESD保护要求,但其较低的维持电压会导致严重的闩锁效应。为解决闩锁问题,对传统LVTSCR进行了改进,通过在N阱下方增加一个N型重掺杂埋层,使器件触发后的电流流通路径发生改变,降低了衬底内积累的空穴数量,从而抑制了LVTSCR的电导调制效应,增加了维持电压。Sentaurus TCAD仿真结果表明,在不增加额外面积的条件下,改进的LVTSCR将维持电压从2.44 V提高到5.57 V,能够避免5 V工作电压集成电路闩锁效应的发生。

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《一种高维持电压的LVTSCR》
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